俄罗斯我们掌握EUV光刻机核心技术，将比中国更快研制出光刻机

【俄罗斯光刻梦又向前冲了，真的是挺让人惊喜的呢！】哇塞，你知道吗？从去年开始，俄罗斯就像打了鸡血一样，疯狂搞自己国家的光刻机项目。你想象一下，他们不是随便说说的，而是真的在干活！

在那个叫做下诺夫哥罗德的地方，应用物理研究所那帮技术大牛宣布了，他们已经启动了第一台设备的研发了。重点是，这台设备是要从350纳米往更先进的方向走，毕竟谁不想用更小的线宽，芯片才有用武之地嘛！

我觉得，俄罗斯这次是真的想在半导体产业里不再只是“跟随者”，而是要变成“领跑者”。

【官宣消息一出，简直像打了个强心针！】话说，去年11月，俄罗斯工业和贸易部的副部长瓦西里·什帕克还在公开场合说，2024年就能正式投产350纳米的光刻机！哇，这个时间表挺快的嘛！

我觉得他们是真的有信心，毕竟大公司都在追求更高的精度，他们这个节奏看起来还挺紧凑的。到2026年，还会把工艺推进到130纳米，说白了就是要不断缩小芯片上的线宽，芯片变得更有“有型”，性能也更强。这节奏，简直像个“快进器”一样，挺让人期待的。

【到2024年5月，第一台350纳米光刻机在莫斯科亮相，真是让人忍不住鼓掌！】我朋友说，俄罗斯的工程师们真是太拼了！去年11月还在讨论方案，没想到不到半年时间，第一台350纳米的光刻机就在莫斯科那边装配完毕了。你知道吗？

这台机子主要用在汽车和能源芯片的测试上，听起来就超级“实用”和“有用”的样子。老实说，我觉得他们这个速度，真的是超乎想象！毕竟，光刻机这个东西，技术门槛那么高，要不是有一帮技术牛人坐镇，怎么可能这么快就能搞出来。

真心觉得，俄罗斯这次的“光刻梦”要成真的可能性还是挺大的，毕竟，谁都知道，芯片产业是未来的“硬核”啊！